SEMICOWORKER Product Family
SDU-3000S 系列等离子干法去胶设备和先进的图案残胶去除系统具有独特的ICP源和双片Twins腔体结构设计。每个腔室可以独立操作，配有专用真空传输模块，以实现最大的工艺灵活性和
可扩展性。设备在批量生产中具有高工艺灵活性，卓越的工艺性能，优越的颗粒污染和低成本。它们是全球半导体器件制造中光刻胶剥离和高级图案残胶去除的首选工具。
设备特性
ICP远程等离子源设计；
双片Twins腔体结构设计；
完善的电子过滤能力；
晶圆表面等离子损伤小;
支持常规厚度晶圆和Taiko薄片晶圆去胶;
去胶速率快，产能高，MTBC长;
基于windows 系统开发软件，UI界面友好;
产品应用
光刻胶剥离 Bulk Strip
预处理 Descum
表面清洁 Surface Clean
