SDU-300 RIE 反应离子蚀刻
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SDU-300 平台为包括半导体制造、材料科学和故障分析在内的一系列应用提供了灵活性。这些系统专为提高效率、可靠性和占用空间而设计和制造,可提供多种处理和等离子处理配置,以满足客户的要求。

SDU-300 RIE 反应离子蚀刻特点:

  • 固态射频发生器和全自动网络匹配器,可实现快速且一致的刻蚀

  • 全局域的工艺气体进气分布装置实现了均匀的气体分布

  • 高抽气速率能够提供较宽的工艺气压窗口

  • 晶圆冷却系统实现了更佳的晶圆温度控制




可刻蚀多种材料,包括:

  • 介电材料(SiO2、SiNx等)

  • 硅基材料(Si,a-Si,poly Si)

  • III-V材料(GaAs、InP、GaN等)

  • 溅射金属(Au、Pt、Ti、Ta、W等)

  • 类金刚石(DLC)


地址:珠海市金湾区红旗镇小林东成路118号
服务热线:+86 756 3331614
   
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