电感耦合等离子体刻蚀
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   电感耦合等离子体(ICP)刻蚀是一种被广泛使用的技术,可提供高速率、高选择比以及低损伤的刻蚀。等离子体能够在低气压下保持稳定,因此能够更好地控制刻蚀形貌。 ICP刻蚀源在低气压下仍可产生高密度的反应粒子。衬底上的直流偏压由一个射频发生器独立控制, 因此可根据工艺要求控制离子能量。


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特性

  • 高刻蚀速率

  • 出色的均匀性

  • 低气压下高密度的反应粒子

  • 精准的衬底直流偏压控制

  • 精准的离子能量控制

  • 更宽的电极温度范围 -150ºC至+400ºC



地址:珠海市金湾区红旗镇小林东成路118号
服务热线:+86 756 3331614
   
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