反应离子刻蚀(RIE)
产品详情

   RIE是一种操作简单且经济实用的通用等离子体刻蚀手段。单射频等离子体源同时决定了离子密度和能量。


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特性:

选择多种类型的刻蚀工艺:

  • 化学刻蚀——各向同性,高速率

  • 离子诱导刻蚀——各向异性,中等速率

  • 物理刻蚀——各向异性,低速率

  • 广泛应用于反向解剖工艺和失效分析中



地址:珠海市金湾区红旗镇小林东成路118号
服务热线:+86 756 3331614
   
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