RIE是一种操作简单且经济实用的通用等离子体刻蚀手段。单射频等离子体源同时决定了离子密度和能量。
选择多种类型的刻蚀工艺：
化学刻蚀——各向同性，高速率
离子诱导刻蚀——各向异性，中等速率
物理刻蚀——各向异性，低速率
广泛应用于反向解剖工艺和失效分析中
